2" Source de pulvérisation par magnétron

Name: 2" Source de pulvérisation par magnétron
Brand: Zhengzhou KS Instrument Equipment Co., Ltd.
SKU: 2175330432

Henan, ChineZhengzhou KS Instrument Equipment Co., Ltd.

2 500,00 $US

1 Pièce

Spécifications du produit

numéro de modèle

Profil du produit

Personnalisation

Disponible

Service après-vente

supports

Garantie

1 an

N° de Modèle.

KS-MSG

Type

Pistolet de Projection de Revêtement

Revêtement

Revêtement sous Vide

Substrat

verre, plaquette, métal, substrats en céramique

Certificat

État

Nouveau

mot clé

tête cible magnétique

application

machine de revêtement à magnétron entrée d'eau te

nom du produit

source de sputtering à magnétron

type de structure

tête de pulvérisation rotative à balancement

mode de refroidissement

refroidissement par circulation d'eau intégrée

mode de décharge

décharge double dc et rf optionnelle

circuit magnétique

aimant permanent haute performance

Paquet de Transport

boîte en bois/carton

Spécifications

1/2/4/6/8inches

Marque Déposée

Origine

Chine

Caractéristiques principales

Structure pivotante : La tête de pulvérisation réglable de type pivotant permet une déposition uniforme de films minces sur de grandes surfaces pour les substrats plats.

Taille standard de la cible : Compatible avec les cibles de pulvérisation métalliques et non métalliques de 2 pouces, offrant une grande adaptabilité aux matériaux.

Décharge de magnétron stable : Le circuit magnétique interne optimisé assure une décharge lumineuse stable à long terme, sans risque d'arc électrique.

Conception à large compatibilité : Compatible avec toutes les machines de dépôt sous vide de laboratoire, résolvant les difficultés liées au remplacement des pulvérisateurs de différentes marques.

Structure intégrée de refroidissement par eau : Le canal de circulation d'eau intégré refroidit efficacement la cible, évitant ainsi la surchauffe et la fissuration de la cible.

Circuit magnétique à longue durée de vie : Aimant permanent haute performance à l'intérieur, garantissant une intensité de champ magnétique stable pour des milliers de cycles de dépôt.

Profil de l'entreprise

Importateurs et exportateurs

Zhengzhou KS Instrument Equipment Co., Ltd.

Henan, Chine

CertifiéType d'Entreprise: Fabricant/Usine & Société Commerciale CertifiéCapacité de R&D: Service ODM disponible & Service OEM disponible CertifiéOptions de personnalisation: Personnalisation à partir d'échantillons, Personnalisation à partir des conceptions, etc. CertifiéPort le plus Proche: Shanghai PortTemps de réponse moyen: ≤1.27h CertifiéConditions de Paiement: LC, T/T, D/P, etc.

À propos de notre Usine & Contexte Commercial

AdresseZhengzhou, Henan, China

Nombre d'Employés13

Capital Social2,000,000 RMB

Conditions Commerciales Internationales(Incoterms)FOB, CIF, CFR, EXW

Délai MoyenDélai de Livraison en Pleine Saison: Dans les 15 Jours Ouvrables, Un Mois, 1-3 Mois, Délai de Livraison hors Saison, Dans les 15 Jours Ouvrables, Un Mois, 1-3 Mois

Quantité minimum de commande1 unit

Partenaires de la chaîne d'achat10

Notre Capacité de Production & Expertise Technique

Produits PrincipauxSputtering par magnetron, revêtement PVD en laboratoire, revêtement par évaporation thermique, appareil de rotation, four sous atmosphère sous vide, four CVD, four dentaire, nettoyeur plasma, revêtement plasma, équipement de chauffage de laboratoire

Type d'inspection pour les produits finis100% inspection(Inspection visuelle & Contrôle de fonctionnement)

Méthode d'inspection des produits finisProduit fini vérifié par le personnel d'emballage

Notre expérience dans le Secteur & Record Commercial Mondial

Principaux MarchésAmérique du Nord

Répéter le choix des acheteurs30%~50%

Nombre d'Employés du Commerce Extérieur4

Nos Certifications, Normes & Reconnaissance de l'Industrie

Certification du produitCE

Produit Q&A

Q:Quelle est la taille des cibles que ce système de pulvérisation par magnétron peut prendre en charge ?

Conception standard pour les cibles de pulvérisation de 2, 4, 6 ou 8 pouces, compatible avec tous les matériaux de cibles courants, qu'ils soient métalliques ou non.

Q:Quel est l'avantage de la structure pivotante ?

La conception pivotante augmente la surface de dépôt effective et améliore considérablement l'uniformité de l'épaisseur des couches minces sur les substrats de grande taille.

Q:Ce système de pulvérisation possède-t-il une fonction de refroidissement ?

Oui, il est équipé d'un canal de refroidissement par eau intégré qui permet de refroidir continuellement la cible pendant les processus de pulvérisation de longue durée.

Q:Avec quel type d'équipement ce système de magnétron peut-il être utilisé ?

Il peut être utilisé avec tous les types de machines de dépôt de couches minces sous vide pour les laboratoires, pour les expériences de dépôt de films métalliques, d'oxydes et de semi-conducteurs.